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宏佳解析等離子除臭設(shè)備的概念和應(yīng)用范圍

點(diǎn)擊次數(shù):1773次  更新時(shí)間:2015-09-24

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,環(huán)境污染問(wèn)題日益突出,各種類型的環(huán)境污染層出不窮,嚴(yán)重危及了人類的健康與生存。為了人類自身的安危,治理環(huán)境問(wèn)題迫在眉睫。近年,涌現(xiàn)出許多治理環(huán)境問(wèn)題的高新技術(shù),如超聲波、光催化氧化、低溫等離子體、反滲透等,其中低溫等離子體作為一種、低能耗、處理量大、操作簡(jiǎn)單的環(huán)保新技術(shù)來(lái)處理有毒及難降解物質(zhì),是近來(lái)研究的熱點(diǎn)。

等離子除臭設(shè)備概念:

所謂“等離子體",指氣體在外界能量作用下,形成由電子、離子、光子、中性分子和激活的分子組成的集合體,即為等離子體。根據(jù)能量的不同,可分為熱等離子體和低溫等離子體。熱等離子體處于熱平衡狀態(tài),各種物質(zhì)都處于相同溫度。比如雷電就是自然界產(chǎn)生熱等離子體。熱等離子體的溫度大

概為1-2電子伏特(1 eV約為11,600 K)。

      低溫等離子體中電子的溫度遠(yuǎn)高于氣體溫度。因?yàn)橥饧幽芰恐苯幼饔糜陔娮佣皇亲饔糜跉怏w分子,因此電子溫度可達(dá)1-10 eV,而氣體溫度可維持室溫。低溫等離子體可在大氣壓和低壓下產(chǎn)生。工業(yè)應(yīng)用中主要是在大氣壓條件下,施加高壓電場(chǎng)產(chǎn)生低溫等離子體。

低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用范圍廣,氣體的流速和濃度對(duì)于氣態(tài)污染物治理技術(shù)應(yīng)用來(lái)說(shuō)是兩個(gè)非常重要的因素。生物過(guò)濾和燃燒技術(shù)能應(yīng)用于較高濃度范圍,但卻受氣體的流速所限;電子束照射技術(shù)僅有一非常窄的氣體流速范圍。而低溫等離子體技術(shù)對(duì)氣體的流速和濃度都有一個(gè)很寬的應(yīng)用范圍,其應(yīng)用廣泛不言而喻。等離子體技術(shù)工藝簡(jiǎn)單,吸附法要考慮吸附劑的定期更換,脫附時(shí)還有可能造成二次污染;燃燒法需要很高的操作溫度;聯(lián)合催化法中,催化劑存在選擇性,某些條件(如溫度過(guò)高)會(huì)造成催化劑失活,光催化法只能利用紫外光等;生物法要嚴(yán)格控制pH值、溫度和濕度等條件,以適合微生物的生長(zhǎng)。而低溫等離子體技術(shù)則較好的克服了以上技術(shù)的不足,反應(yīng)條件為常溫常壓,反應(yīng)器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,并可同時(shí)消除混合污染物(有些情況還具有協(xié)同作用),不會(huì)產(chǎn)生二次污染等。就經(jīng)濟(jì)可行性來(lái)說(shuō),低溫等離子體反應(yīng)裝置本身系統(tǒng)構(gòu)成就單一緊湊,在運(yùn)行費(fèi)用方面,微觀來(lái)講,因放電過(guò)程只提高電子溫度而離子溫度基本保持不變,這樣反應(yīng)體系就得以保持低溫,所以不僅能量利用率高,而且使設(shè)備維護(hù)費(fèi)用也很低。


    低溫等離子體技術(shù)在氣態(tài)污染物治理方面優(yōu)勢(shì)顯著。其基本原理是在電場(chǎng)的加速作用下,產(chǎn)生高能電子,當(dāng)電子平均能量超過(guò)目標(biāo)治理物分子化學(xué)鍵能時(shí),分子鍵斷裂,達(dá)到消除氣態(tài)污染物的目的。1980年代,日本東京大學(xué)S.Masuda教授提出的高壓脈沖電暈放電法是常溫常壓下得到低溫等離子體的zui簡(jiǎn)單、zui有效的方法。它已成為目前的研究前沿,也正越來(lái)越多的用于氣態(tài)污染物的治理。 

等離子除臭設(shè)備應(yīng)用范圍:

可廣泛用于多種污染物的處理,如塑料加工廢氣、畜牧場(chǎng)臭氣、餐館油煙、公共場(chǎng)所臭氣、民宅臭氣、污水處理廠臭氣、煙草行業(yè)廢氣等污染物處理。        

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